スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長 (CVD) 法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
- 成膜技術に必要な真空・表面物性工学
- 気体分子運動論の基礎
- 真空工学の基礎
- 表面物性工学の基礎
- 真空蒸着法
- 真空蒸着法の原理
- 真空蒸着法の種類と装置例
- 真空蒸着法で作製される薄膜の例
- 真空蒸着法を適用する際の留意事項
- スパッタ法
- スパッタ法の原理
- スパッタ法の種類と装置例
- スパッタ法で作製される薄膜の例
- スパッタ法を適用する際の留意事項
- 化学気相成長 (CVD) 法
- CVD法の原理
- CVD法の種類と装置例
- CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
- CVD法を適用する際の留意事項
- 薄膜評価法
- 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
- 膜組成、膜構造
- 付着力、膜応力
- 電気的特性、光学的特性
- 成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
- 膜質に関するトラブル
- 装置に関するトラブル
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