分光エリプソメトリーは、スペクトルの豊富な情報量を活かした薄膜の膜厚測定、光物性評価が可能で、精密な薄膜評価を必要とする様々な分野で広く利用されている。しかし、測定パラメーターの意味や光学モデルを用いた解析が直感的に理解し難く、偏光、干渉といった光学の知識、誘電関数などの光物性の知識が必要なことなどから、十分に使いこなすことは容易ではない。
本講習では、光物性の基礎、分光エリプソメトリーの基本原理から測定・解析ノウハウまでをビジュアルに系統立てて解説する。始めに、光物性の基礎である誘電率、屈折率の本質について理解し、分光エリプソメトリーの基礎と原理をステップバイステップで学んでいく。次に、フィッティング解析の実演を通し、解析の進め方、光学モデル構築のポイントを実践的に学習する。さらに、多層膜、有効媒質近似、表面ラフネス、光学異方性膜など、より複雑なサンプル系の解析事例から測定・解析のノウハウを学ぶ。
- イントロダクション
- 本講習の目的
- 薄膜解析と分光エリプソメトリー
- 分光エリプソメトリーの特徴と用途
- 物質と光の相互作用
- 分極と屈折率
- 分極、電気双極子振動、電気双極子放射
- 波の重ね合わせ原理と波の加算
- Lorentz振動子モデルの誘電関数
- 屈折率分散の起源
- なぜ分光なのか (分極と分光スペクトル)
- 分極機構と光の周波数
- 共鳴周波数が異なる分極の重ね合わせで誘電関数の形が決まる
- 誘電関数と光学定数スペクトル
- 屈折率の正常分散領域の意味
- 偏光、光の反射、透過、屈折
- p偏光とs偏光 (偏光の定義)
- 直線偏光、円偏光、楕円偏光
- 反射/屈折の法則とフレネル係数
- 偏光反射の入射角依存性とブリュスター角の物理的な意味
- 薄膜の干渉
- 薄膜中の光の伝搬と干渉
- 薄膜の光学モデルと振幅反射係数・振幅透過係数
- 多層膜への拡張
- 分光エリプソメトリー
- エリプソメトリーの測定原理
- 光の反射に伴う偏光変化
- 偏光解析関数と偏光解析パラメーター
- 偏光解析パラメーターの表記法
- 振幅比角Ψ、位相差Δと偏光状態 (Ψ-Δチャートの読み方)
- なぜ薄膜の光学定数は決定しづらいか
- ポアンカレ球による偏光状態表示
- 単一波長から分光へ
- 単波長エリプソメトリーの制約
- エリプソメーター
- エリプソメーターの基本構成
- 回転検光子型
- 回転補償子型
- 回転補償子型
- 位相変調型 等
- 回転検光子型エリプソメーターにおけるΨ、Δ測定
- 各種エリプソメトリー測定法の特性と長所/短所
- 誘電関数モデルと屈折率スペクトルの関係
- 3つの共鳴吸収タイプと誘電関数モデル
- 光学定数スペクトルの表現形式
- SellmeierモデルとCauchyの分散式
- Kramers-Kronigの関係式
- フリーキャリアを記述するDrudeモデル
- 分光エリプソメトリー解析の流れ
- スペクトルフィッティング解析の重要性
- データ解析の流れ
- 光学モデルの構築
- フィッティング誤差関数
- フィッティング解析のポイント
- 測定の実際と解析上のポイント
- 透明基板上の薄膜解析
- チタニア (TiO2) 膜の光学定数測定
- 膜質に左右される屈折率の値
- 透明基板測定における薄膜解析の留意点と基板裏面反射対策
- 吸収膜の解析:金属薄膜の光学定数決定
- 多層膜解析:フォトニック結晶用多層膜の解析
- 半導体基板上の薄膜解析例
- 測定条件の設定 (シリコン基板上の熱酸化膜を例に)
- 測定解析例:フォトレジスト
- 測定解析例:AlGaAs超格子構造
- 測定解析例:薄膜トランジスタ
- 測定解析例:レーザーアニール結晶化ポリシリコン
- 測定解析例:フラーレン膜
- 表面ラフネス
- 有効媒質近似 (EMA)
- Bruggemanモデル
- Maxwell Garnettモデル
- EMAの応用
- 表面ラフネス
- HgCdTeの混晶比
- a-Si界面中間層など
- 高度な解析例
- 屈折率傾斜膜の解析
- 光学異方性膜
- まとめ
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