EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

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本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。

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プログラム

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代 EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。

  1. EUVLの概要
    1. EUVLの概要
    2. EUVL用レジスト
  2. アウトガス評価技術
    1. EUVLレジストのアウトガス評価方法
    2. EUVLレジストのアウトガス評価装置
  3. EUVレジストの評価技術
    1. EUV透過率測定
    2. ナノパーティクル添加レジストの高感度化
    3. 屈折率nk測定
    4. EUV2光束干渉露光
  4. EUVメタルレジストの評価技術
    1. メタルレジストの概要
    2. EUVメタルレジストのアウトガス分析
    3. EUVメタルレジストの問題点
  5. EUVフォトレジストと電子線レジストの感度

受講料

案内割引・複数名同時申込割引について

シーエムシーリサーチからの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
また、2名様以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり半額の 18,000円(税別) / 19,800円(税込)となります。

アカデミック割引

学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。

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