原子層堆積 (ALD) 法による薄膜作製技術の基礎と応用・技術トレンド

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本セミナーでは、原子層堆積 (ALD) 法の原理・特徴・装置等の基礎から、薄膜の特性評価、用いられる材料群、成膜条件・注意点、エネルギーデバイス作製や各種材料の表面改質への応用、新しい成膜材料やプラズマ技術を用いた成膜等の最近のALD技術までを詳解いたします。

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プログラム

原子層堆積 (ALD) 法はその名前の通りに、原子1層レベルの厚みで膜厚を制御しながら薄膜を作製する技術として注目されています。一方で、どういった材料が成膜可能か、どのようなデバイスへの成膜が可能かを理解するためにはその原理を理解しておくことが重要です。  本セミナーでは原子層堆積法の基本的な原理、どのような装置で実現可能かといった技術的を説明すると共に、一般的に用いられる真空蒸着等の薄膜形成技術との異なる部分にも注目し、技術の有効性について説明を行います。また、エネルギーデバイスへの応用やソフトマテリアルなどへの適用などのアプリケーションに関する説明、新しい成膜材料やプラズマ技術を用いた成膜等の最近のALD技術のトレンドを紹介いたします。

  1. 原子層堆積 (ALD) とは
    1. 微細加工技術で用いられる様々な薄膜作製技術.
    2. 原子層堆積法の歴史
    3. 原子層堆積法の原理と特徴
    4. 原子層堆積法を実現する装置
    5. 原子層堆積法で得られる薄膜と特性評価
    6. 原子層堆積法で用いられる材料群
    7. 成膜する場合の条件、注意点
  2. 原子層堆積法の応用と展望
    1. エネルギーデバイス作製への応用
    2. 各種材料の表面改質への応用
    3. 新しい技術と今後の展望

受講料

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