最近の先進半導体パッケージ形成プロセスの基礎解説と今後の開発動向

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本セミナーでは、Chiplet、Si bridge、3D FanOutの中核プロセスの基礎を再訪し、再配線 (RDL) の微細化、FOWLP/PLPの三次元化の課題を整理しながら、異種デバイス集積化の今後の開発動向と市場動向を展望いたします。

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プログラム

半導体デバイスの先端微細化プロセスと先進パッケージはポストコロナの経済社会活動の基盤となるデータ通信の大容量高速化とAIの認知深化の開発を牽引する車の両輪です。既に、機能別に分割された複数の小チップとメモリの集積化により所望のデバイス機能を創出する先端プロセッサ製品は急速に市場へ浸透しつつあります。また、Fan Out型デバイスモジュールの生産形態はウエハレベルからパネルレベルへ拡張しつつあり、民生品及び車載用途向け半導体デバイスのサプライチェーン強化に向けて、PCB基板やLCDパネルの業態は新たなエコシステム構築へ変化しつつあります。  本セミナーでは、先進パッケージのChiplet、Si bridge、3D Fan Outの基幹プロセスの基礎を再訪し、現状の課題を整理しながら今後の開発動向と市場動向を展望します。

  1. はじめに
  2. 先進半導体パッケージの役割の変化
    • 中間領域プロセスの位置付けと価値創出の事例
  3. 三次元集積化デバイス形成
    • 2Dから3Dチップレットへ進展した Logic-Memory 3D Integration開発の推移
    • Micro-Bump, RDL, CoC, TSV, Si Bridge, Hybrid-Bondingプロセスの基礎と留意点
    • RDL微細化に向けたSAPの課題とDamasceneプロセス導入の要否
  4. FOWLP/PLPプロセス
    • FOWLPの現状と課題
    • Through Mold Interconnectプロセス開発による3D Fan Outの汎用化
    • Panel Level Process (PLP) の高品位化と量産化の課題
    • Hybrid production schemeの実現に向けて
  5. 今後の開発動向及び市場動向の概観
  6. おわりに
  7. Q&A

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