XPS (ESCA) の基礎と応用

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本セミナーでは、XPSの原理、試料作製と測定条件の設定方法、データ解析を適切におこなうためのノウハウを詳解いたします。

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プログラム

本セミナーでは、XPSの原理、試料作製と測定条件の設定方法、データ解析を適切におこなうためのノウハウ、および最新のハードウェア技術の動向や最近の話題を解説します。

  1. 表面分析とは
    1. 表面の重要性
    2. 各種表面分析手法
    3. 他の表面分析手法との比較
      • AES (オージェ電子分光法)
      • TOF-SIMS (飛行時間型二次イオン質量分析法)
  2. XPSの原理と特徴
    1. XPS装置の構成
    2. XPSの原理
    3. XPSスペクトルと化学シフト
    4. XPSが表面分析となる理由
    5. 深さ方向分析
    6. イメージング分析
  3. XPSの試料作成と測定条件
    1. 測定できる試料
    2. サンプリングの注意点
    3. 粉末試料
    4. 絶縁試料
    5. 電池材料、および導電物と絶縁物の混在試料
  4. 測定
    1. ワイドスペクトル (サーベイスペクトル)
    2. ナロースペクトル
  5. データ処理
    1. 定量計算
    2. 定量範囲の決定
    3. 化学状態の推定 (カーブフィッティング)
    4. その他のデータ処理
  6. 最新の測定技術
    1. マイクロXPS分析
    2. ガスクラスターイオン銃による有機試料の深さ方向分析
    3. ガスクラスターイオン銃による無機試料の表面クリーニング
    4. 高エネルギーXPS (HAXPES)
    5. UPS (紫外光電子分光法) とLEIPS (逆光電子分光法)
    6. AESと組み合わせた分析
    7. TOF-SIMSとの組み合わせた分析
  7. まとめ、質疑

受講料

複数名受講割引

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

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