洗浄の基礎、半導体洗浄のトラブル発生メカニズムとその対策

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本セミナーでは、半導体、ディスプレイ、5G機器などの精密洗浄への要求特性とそのクリーン度の実際、使用する薬剤や設備、環境安全性、洗浄度評価の手法と進め方などについて詳解いたします。

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プログラム

「洗う」ということの基礎現象に始まり、実務的な薬液と洗浄機構造を理解し、更には困った時に考えるべき要点を説明します。製品の仕上げ方は、洗浄した後に使う目的により変わりますので、それを前提にした上で、洗浄の薬液と洗浄装置の役割、働き、を説明します。単純な槽の中の水流の可視化実験を動画で紹介しますので、それを見て流れを想像するコツを学び、つぎに、実際の枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れ動画、超音波を使っている時の気泡挙動をとらえた貴重な動画を基に、洗浄している時の流れの様子を理解すると共に、流れを改善する時の要点を把握します。最後に、洗えない時の対策を簡潔に説明します。半導体以外の洗浄技術者にも参考になるはずです。

  1. 汚れの種類、由来と仕上げ
  2. 洗浄の4要素
    • 温度
    • 時間
    • 化学
    • 力学
  3. 半導体洗浄に特有の事項
  4. 半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会
  5. 半導体洗浄の基礎現象
    1. 薬液の種類と働き
      • 付着
      • 脱離
      • 引き剥がす
    2. 化学工学の基礎現象
      • 流れ
      • 拡散
      • 反応
    3. 装置内流れの分類と特徴
    4. 流れの可視化観察 (動画)
  6. 洗浄機内の流れと反応
    1. 枚葉式洗浄機 (流れ動画と数値計算)
      1. 水流観察と計算
      2. 化学反応の数値解析例
    2. バッチ式洗浄機 (流れ動画と数値計算)
      1. 水流観察動画と計算
      2. 水流を変える方法 (実例)
    3. 超音波と水流 (観察動画)
  7. おわりに:トラブル対策の要点

受講料

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