半導体洗浄の基礎とポイント・コツ、トラブルへの対策・考え方

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本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

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プログラム

本セミナーでは、洗浄の基礎的現象から困った時の視点と対策まで1日で説明します。洗浄する目的は何か? 洗うとは如何なることか? 何のためか? 「清浄・きれい」とは何なのか? を改めて考えると、意外な程、工程が見えて来ます。そして、化学工学の基礎として流れの例を映像で見て感覚をつかみ、湿式の枚葉式とバッチ式洗浄機の流れを理解した後に、超音波の効果についても映像で理解します。  それらを通して、足元をすくわれるとしたら何なのか? を解説し、対策を取る視点と方法を簡潔に説明します。半導体以外の洗浄をしている技術者にも参考にして頂けます。

  1. 洗う理由
    • 汚れは何?いつ、どこからなぜやって来る?
  2. 一般の洗浄
    • 洗浄の4要素
      • 温度
      • 時間
      • 化学
      • 力学
  3. 半導体の洗浄に特有のこと
  4. 先端技術情報
    • 半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会
  5. 半導体洗浄の基礎現象
    1. 表面現象
      • 付着
      • 脱離
      • 引き剥がす
    2. 流れ、熱、拡散、反応
    3. 装置内流れの種類
    4. 流れの可視化観察 (簡単な例をその場で実施)
  6. 洗浄機内の流れと反応
    1. 枚葉式洗浄機
      1. 水の流れ (観察と計算)
      2. 化学反応の例
    2. バッチ式洗浄機
      1. 水の流れ (観察と計算)
      2. 水流を最適化 (変える)
    3. 超音波の働きと水の動き (観察)
  7. まとめ:困った時に考えるべきことは?

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