フォトレジストの高分子設計術

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本セミナーでは、フォトレジスト材料の進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説いたします。
また、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説いたします。
さらに、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説いたします。

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プログラム

フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。また、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。

  1. レジスト材料
    1. 原理
    2. 合成例
    3. 最新の化学増幅型
  2. ポジ型レジスト材料
  3. ネガ型レジスト材料
  4. 高分子レジスト材料と低分子レジスト
  5. レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
  6. 最新型レジスト材料
    • メタルレジスト
    • EB
    • EUV用レジスト材料

受講料

複数名受講割引

アカデミー割引

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