CVDリアクタのノンプラズマクリーニング技術

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会場 開催

本セミナーでは、CVDプロセスの基礎から解説し、リアクタクリーニングの技術・プロセスについて整理する貴重なセミナーです。

日時

開催予定

プログラム

  1. 成膜とクリーニング
    1. CVDプロセスの概要 (理想的CVDリアクタの条件)
    2. CVDプロセス・装置の課題 (リアクタクリーニングに求められる条件)
    3. リアクタ内堆積物 (サセプタ、反応容器) と発生する問題
    4. 排ガス管内堆積物 (油状、粉末状) と事故の例 (含、リアクタ内の反応設計)
    5. CVDリアクタクリーニング法
    6. ノンプラズマクリーニングに用いられるガスの性質
      • 基本物性
      • 反応性
      • 取扱
  2. シリコンCVD装置クリーニング (1) (HCl)
    • 化学反応とエッチング速度の挙動、反応速度定数
    • エッチング中の表面形態
  3. シリコンCVD装置クリーニング (2) (ClF3)
    • 化学反応とエッチング速度の挙動、反応速度定数
    • エッチング中の表面形態
  4. 炭化珪素堆積膜除去技術 (ClF3)
    • 化学反応とエッチング速度、反応速度定数
    • エッチング中の表面形態
  5. 酸化ハフニウム堆積膜除去技術 (HCl)
    • 化学反応、粉末と薄膜のエッチング速度
  6. その他の反応性ガス
  7. まとめ

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん
140-0011 東京都 品川区 東大井5丁目18-1
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受講料

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