本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。
日時
- 2020年11月9日 10時30分〜 2020年11月9日 16時30分
開催予定
プログラム
メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、5nmロジックノードも近づいている。本講演では、これらのデバイスの微細化を支えるレジスト、 リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめる。
- リソグラフィの基礎
- 露光
- 照明方法
- マスク
- レジストプロセス
- ロードマップ
- レジストの基礎
- 溶解阻害型レジスト
- 化学増幅型レジスト
- レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の最新技術
- 液浸リソグラフィ
- ダブル/マルチパターニング
- EUVリソグラフィ
- 自己組織化 (DSA) リソグラフィ
- ナノインプリントリソグラフィ
- リソグラフィの技術展望
- レジスト、微細加工用材料の技術展望と市場動向
受講料
- 1名様: 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 複数名: 22,500円(税別) / 24,750円(税込)
案内割引・複数名同時申込割引について
シーエムシーリサーチからの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
また、2名以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり半額の 22,500円(税別) / 24,750円(税込)となります。
- Eメール案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
- Eメール案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
アカデミック割引
- 1名様あたり 24,000円(税別) / 26,400円(税込)
学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。