半導体における洗浄のポイント・コツを修得

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本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

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プログラム

本セミナーでは、洗浄する目的から基本に立ち返ります。洗うとは如何なることで何のためなのか、半導体の場合にきれいとは何なのか、どのような方法で、どのような状態にすればきれいなのかを考えてみます。ここでは特に、洗浄という一連の工程を、現象と項目ごとに分類して理解して行き、何故洗うのか、普通に洗うことと半導体の洗浄の違いは何か、どのように仕上げたら良いのか、足元をすくわれるとしたら何なのか、を解説し、対策を取る際の考え方と方法を簡潔に説明します。半導体以外の洗浄をしている技術者にも参考にして頂けます。

  1. 洗う理由:汚れは何? いつ、どこからなぜやって来る?
  2. 一般の洗浄
    • 洗浄の4要素
      • 温度
      • 時間
      • 化学
      • 力学
  3. 半導体の洗浄に特有のこと
  4. 先端技術情報 (半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会)
  5. 半導体洗浄の基礎現象
    1. 表面現象
      • 付着
      • 脱離
      • 引き剥がす)
    2. 化学工学
      • 流れ
      • 拡散
      • 反応
    3. 装置内流れの種類
  6. 洗浄機内の流れと反応
    1. 枚葉式洗浄機
      1. 水の流れ (観察と計算)
      2. 化学反応の例
    2. バッチ式洗浄機
      1. 水の流れ (観察と計算)
      2. 水流を最適化 (変える)
    3. 超音波の働きと水の動き (観察)
  7. まとめ:課題解決の要素

受講料

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