本セミナーでは、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。
EUVリソグラフィ技術は2019年より最先端の半導体量産技術として適用されました。欧米、アジアを中心に半導体技術の世界覇権争いが激化しています。このような状況の中で、EUVリソグラフィ技術開発の黎明期から、現在、そして今後の展望を正しく理解し、今後の半導体およびその周辺技術開発に生かして頂きたいと考えています。これを目的にして、EUVリソグラフィの光学系、レジスト、マスク、ペリクル技術に加えて、これらの評価技術について紹介します。兵庫県立大学では1996年より25年間に亘り、EUVリソグラフィの基盤技術開発に取り組んで参りました。ニュースバル放射光施設でのEUVリソグラフィ技術開発にも言及したいと存じます。
学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。