本セミナーでは、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。
日時
- 2020年8月27日 10時30分〜 2020年8月27日 16時30分
開催予定
プログラム
EUVリソグラフィ技術は2019年より最先端の半導体量産技術として適用されました。欧米、アジアを中心に半導体技術の世界覇権争いが激化しています。このような状況の中で、EUVリソグラフィ技術開発の黎明期から、現在、そして今後の展望を正しく理解し、今後の半導体およびその周辺技術開発に生かして頂きたいと考えています。これを目的にして、EUVリソグラフィの光学系、レジスト、マスク、ペリクル技術に加えて、これらの評価技術について紹介します。兵庫県立大学では1996年より25年間に亘り、EUVリソグラフィの基盤技術開発に取り組んで参りました。ニュースバル放射光施設でのEUVリソグラフィ技術開発にも言及したいと存じます。
- リソグラフィ技術全般について
- EUVリソグラフィ技術の重要性について
- EUVリソグラフィの開発の歴史
- EUリソグラフィの技術課題
- EUV用光学系および多層膜技術について
- EUV用レジスト材料・プロセス技術について
- EUV用マスク技術について
- EUV用ペリクル技術について
- 今後のEUVリソグラフィ技術動向
- 今後の半導体技術展望
- 質疑応答
受講料
- 1名様: 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
- 複数名: 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
複数名同時受講割引について
- 2名様以上でお申込みの場合、
1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
- 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
- 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
- 他の割引は併用できません。
アカデミック割引
- 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)
学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。