日時
- 2020年10月20日 13時30分〜 2020年10月20日 16時30分
開催予定
プログラム
AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD (原子層堆積) 技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、薄膜トランジスタやパワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。
- 薄膜形成技術
- 薄膜作製の基礎
- 薄膜の評価手法
- 電気的評価
- 化学的分析手法
- 光学的評価手法
- ALD技術の基礎
- ALD技術の原理
- ALD薄膜の特長
- ALD技術の歴史
- ALD装置仕組み
- ALD技術の材料
- ALD技術の応用
- 半導体分野への活用状況
- パワーデバイスへの応用
- 酸化物薄膜トランジスへの応用
- MOS LSIへの応用
- ALD技術の将来
- ALD技術の課題
- ALD技術の展望
受講料
- 1名様: 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
- 複数名: 18,500円(税別) / 20,350円(税込)
案内割引・複数名同時申込割引について
シーエムシーリサーチからの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
また、2名以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり半額の 18,500円(税別) / 20,350円(税込)となります。
- Eメール案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 37,000円(税別) / 40,700円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 37,000円(税別) / 40,700円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 55,500円(税別) / 61,050円(税込)
- Eメール案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 84,000円(税別) / 92,400円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 126,000円(税別) / 138,600円(税込)
アカデミック割引
- 1名様あたり 24,000円(税別) / 26,400円(税込)
学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。