日時
- 2020年10月5日 10時30分〜 2020年10月5日 16時30分
開催予定
プログラム
- ゾル-ゲル法の基礎 (合成と特性評価法)
- シリカ系ゾル-ゲル反応
- ゲル網目と細孔の形成
- 乾燥による構造変化
- 多孔構造の観察と測定
- 多孔構造制御の原理と制御手法
- 重合反応と相溶性
- 重合に誘起される相分離
- 相分離によって形成される多相構造
- ゾル-ゲル系における相分離と多孔材料
- 有機無機ハイブリッド多孔体
- オルガノアルコキシシランの反応
- エアロゲルの特性と問題点
- 有機無機ハイブリッド系エアロゲル
- ナノ～マクロ多孔構造を制御したハイブリッド材料
- 質疑応答
会場
受講料
- 1名様: 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 複数名: 25,000円(税別) / 27,500円(税込)
案内割引・複数名同時申込割引について
R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
- R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
- R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
アカデミック割引
- 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の学生に限ります。
教職員や研究員、企業に在籍されている学生には適用されません。
また、当日学生証をご持参ください。