半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と歩留改善のための効果的な汚染制御技術

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会場・オンライン同時開催

本セミナーでは、洗浄技術の基礎から歩留改善のための技術について経験豊富な講師がわかりやすく解説いたします。
また、次世代の汚染制御・洗浄乾燥技術についても解説いたします。

日時

2020年6月24日 13時00分〜 2020年6月24日 16時30分

開催予定

プログラム

半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示し、それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関しても紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。

序論 – 汚染が半導体デバイスに与える影響
1. クリーン化の重要性
2. 金属汚染およびナノパーティクル
  - Fe
  - Cu 等
3. 分子汚染
  - NH3
  - アミン
  - 有機物
  - 酸性成分
4. 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
洗浄技術
1. RCA洗浄
2. 各種洗浄液と洗浄メカニズム – 薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
3. 洗浄プロセスの動向
4. 最先端の洗浄技術とその問題点
その他の汚染制御技術
1. 工場設計
2. ウェーハ保管、移送方法
次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
1. 新洗浄乾燥技術
  - SCCO2洗浄乾燥
  - PK剤乾燥
2. 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

質疑応答・名刺交換

受講料

1名様: 38,000円(税別) / 41,800円(税込)
複数名: 20,000円(税別) / 22,000円(税込)

複数名受講割引

2名様以上でお申込みの場合、
1名あたり 20,000円(税別) / 22,000円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 38,000円(税別) / 41,800円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。

オンライン受講割引

オンライン受講の場合、1名様 30,400円(税別) / 33,440円(税込) で受講いただだけます。
2名様以上でお申込みの場合、
1名あたり 20,000円(税別) / 22,000円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 30,400円(税別) / 33,440円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
申込みフォームの通信欄に「オンライン受講割引」とご記入ください。
他の割引は併用できません。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。