本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。
日時
- 2020年3月26日 10時30分〜 2020年3月26日 16時30分
開催予定
プログラム
- リソグラフィの基礎
- リソグラフィーとは
- 露光システムとリソグラフィー装置の変遷
- レジスト材料とその高性能化
- パターンニング用レジスト材料 (総論)
- G線、i線用レジスト
- KrF用レジスト
- ArFおよびArF液浸用レジスト
- EUV用レジスト
- レジスト製造技術と品質管理
- レジスト製造技術
- レジストの性能安定化技術
- 品質管理 – その項目と方法
- レジスト材料の評価技術
- 性能評価
- 品質評価
- シミュレーション技術
- レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
- 種々のトラブルとその解決策 (材料面から)
- 種々のトラブルとその解決策 (プロセス面から)
- 顧客対応の方法
- nm以下のリソグラフィー技術
- ダブルパターンニング技術
- DSA技術とその材料
- ナノインプリント技術
- 今後のリソグラフィー技術
- 質疑応答
会場
受講料
- 1名様: 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 複数名: 25,000円(税別) / 27,500円(税込)
案内割引・複数名同時申込割引について
R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
- R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
- R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
アカデミック割引
- 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の学生に限ります。
教職員や研究員、企業に在籍されている学生には適用されません。
また、当日学生証をご持参ください。