本セミナーでは、スパッタリングの基礎知識から、膜特性の改善策・評価法、装置構成上の工夫について解説いたします。
また、熟練者の技能をデジタル化する手法や工程管理に活用できる新しい管理手法についても紹介いたします。
薄膜形成では欠かせない技術である「スパッタリング」は、光学フィルターや半導体電子デバイスなどの幅広い産業展開がなされてきました。現在では、スパッタリングは成熟した成膜技術と見られており、装置産業の一環となって導入と利用が盛んです。しかしながら、多くは、ブラックボックス化した自動化成膜装置を導入するだけで、装置上の工夫や新技術の適用などが実効的に困難であり、今後の競争力を高めるのに不十分となります。スパッタリングの原理や現象を科学的な視点で理解し、基礎データに基づいた合理的な考えを持って、スパッタリング技術を捉えていくことが重要になります。 そこで、当セミナーでは、スパッタリング法の基礎からトラブル対策までを網羅的に学ぶ機会を設けます。特に、成膜条件パラメータと膜特性の相関関係、薄膜の目的とそれに応じた評価、他のPVD法との比較によるベンチマーク検討、装置構成上の工夫などを紹介します。また、スパッタリング熟練者の技能をデジタル化する手法に関しても紹介し、トラブル対策への考え方の蓄積手法、数理モデルによる薄膜工程のIT化など、工程管理に活用できる新しい管理手法の事例についても示します。
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