フレキシブルディスプレイの最新トレンドとALD (原子層堆積) 技術

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プログラム

フレキシブルディスプレイの開発が加速されている。本セミナーでは、その発展を支えるコア技術として、IGZOなど酸化物半導体やLTPS (低温多結晶シリコン半導体) などを基本材料とした高性能薄膜トランジスタの作製技術について詳しく紹介する。また、フレキシブルディスプレイに特有な信頼性劣化現象や高性能化技術の最新動向について、プロにも初学者にもわかりやすく説明する。 　さらに、ALD (原子層堆積) 技術の基礎とその応用技術についても紹介する。

  1. ディプレイの歴史
  2. ディスプレイの基本動作原理
  3. 低温多結晶薄膜トランジスタ (LTPS) の基礎
    1. シリコン薄膜の結晶化技術
    2. 低温多結晶薄膜トランジスタのプロセス技術
    3. 低温多結晶薄膜トランジスタデバイス構造
    4. 低温多結晶薄膜トランジスタ高性能化技術
    5. 低温多結晶薄膜トランジスタの高信頼性化技術
    6. LTPSの新規応用技術
  4. 酸化物薄膜トランジスタの基礎
    1. 酸化物薄膜トランジスタの基礎物性
    2. 酸化物薄膜の低温形成技術
    3. 酸化物薄膜トランジスタのプロセス技術
      1. 真空プロセス技術
      2. 液体 (印刷) プロセス
    4. 酸化物薄膜トランジスタのデバイス構造
    5. 酸化物薄膜トランジスタの高性能化技術
    6. 酸化物薄膜トランジスタの高信頼性化技術
  5. 原子層堆積 (ALD) 技術
    1. 原子層堆積 (ALD) 技術の基礎
    2. 原子層堆積 (ALD) 技術により形成した薄膜素子の特性
  6. フレキシブルディスプレイの最新動向

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん
140-0011 東京都 品川区 東大井5丁目18-1
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