表面吸着プリカーサ分子を介する表面化学反応の繰り返しを用いる原子層プロセスはALDなど、現在、ULSI微細化を筆頭に各種ガスバリア膜、太陽電池、触媒、フォトニクス、生体適合材料など年々、応用が広がってきている。本講義ではこの分野の歴史と最新の動向を紹介、既存あるいは試作装置を使う上で留意すべき点を解説するとともに、汎用あるいは自作装置におけるプロセスその場観察手段としてもっとも基本的なQCM測定について原理と課題、対策の詳細を解説する。 ALD技術の基本と実際に手掛けるときに遭遇する課題と留意点などを理解する。またその場観察の計測手段として不可欠のQCM測定法について知識を得る。
R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。