本セミナーでは、真空蒸着、スパッタ、CVDなどの成膜技術について基礎から解説し、実務での活用についてわかりやすく詳解いたします。
スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長 (CVD) 法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。 本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 23,139円(税別) / 24,990円(税込) で受講いただけます。