現在の薄型テレビやスマートフォン、ハードディスクなどの様々な電子機器には、高機能を有する材料を薄膜化した電子部品が多く用いられている。これらの電子部品に用いられている薄膜を作製する方法の一つとして「プラズマスパッタ法」が使用されている。 そこで、本講演では、一般的なプラズマスパッタ法におけるプラズマ生成から基板上への薄膜堆積に至る基礎的事項や、プラズマスパッタ法による薄膜作製の現状と問題点、プラズマスパッタ法の種類とその動作原理について解説した後、様々なスパッタ法により薄膜を作製した場合の実例について解説する。
R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 23,139円(税別) / 24,990円(税込) で受講いただけます。