プラズマエッチングの基礎から昨今の技術課題とプラズマ最適化設計について

現在、超微細半導体デバイスをはじめ、さまざまなデバイス製造において、プラズマエッチングは重要な役割を担っている。プラズマエッチングの基礎的理解は、研究開発のみならず、生産現場でのプロセス管理においても重要である。しかしながら、一般の専門書だけでは、最先端のプラズマエッチングの実用上の課題を把握することは困難である。 　本講座では、近年重要視されているプラズマエッチングの技術課題として、プラズマ誘起ダメージを中心にとりあげ、プラズマエッチング現場での課題とその解決の方向性について議論する。

1. プラズマとは
   1. プラズマ技術の産業応用例
   2. プラズマを理解するためのパラメータ
2. プラズマエッチングとは
   1. 超微細半導体デバイス製造におけるプラズマエッチングの役割
   2. 超微細加工の基本メカニズム:反応性イオンエッチングとは
3. 最先端プラズマエッチングにおける技術課題について
   1. 加工形状異常に代表される課題とそのメカニズム
   2. 昨今の最重要課題～プラズマ誘起ダメージ
   3. プラズマ誘起ダメージ対策の歴史
4. 最先端プロセス性能を決めるプラズマ誘起ダメージについて
   1. 3つのダメージ発生機構
   2. プラズマ誘起ダメージによる歩留まり低下
   3. プラズマ誘起ダメージによる信頼性劣化
   4. デバイス構造3次元化における新たな課題
   5. わかっていること・わかっていないこと
   6. シミュレーションからプラズマ誘起ダメージを設計する
5. 今後の展望
   1. 今後も必要不可欠なプラズマエッチング
   2. プラズマ誘起ダメージを踏まえた今後のプロセス最適化設計とは
      • 我々は何を明らかにし、何に取り組むべきか
• 質疑応答