UV硬化の基礎、硬化不良対策、影部のUV硬化

会場 開催

本セミナーでは、UV硬化樹脂の材料配合、照射条件の最適化、硬化後の反り・変形・変色の防止、光が届きにくい所への遅延硬化、ハイブリット硬化の適用について詳解いたします。

日時

中止

プログラム

光硬化技術にとって、光開始剤は極めて重要なアイテムである。これらの性能によってUV硬化材料の硬化特性が決まってしまうといっても過言ではない。さらに、光開始剤と光源とのマッチングも重要である。本セミナーではUV硬化反応の基礎について、光開始剤の特性と硬化機構の両面から解説する。  最新のトピックスとして、演者らが開発した新規な光ラジカル重合開始システム、ノンアウトガスタイプの光塩基発生剤、高感度な光強塩基発生剤、および光潜在性チオールとその応用についても紹介したい。さらに、酸・塩基増殖反応を利用した“光化学+熱化学反応”をはじめとする様々な高感度化および影部分の硬化不良対策の手法についてもわかりやすく解説する。

  1. UV硬化に必要な光化学の基礎
    1. UV硬化に必要な光化学の基礎
    2. 光源の選択
  2. 光開始剤
    1. 光ラジカル重合開始剤の特性とUV硬化への応用
    2. 光酸発生剤の特性とUV硬化への応用
    3. 光塩基発生剤の特性とUV硬化への応用
      1. 第1級、第2級アミン発生系
      2. 第3級アミン、強塩基発生系
    4. 光潜在性チオールの特性とUV硬化への応用
  3. カスケート゛式化学を利用した影部分のUV硬化
    1. 酸増殖剤の開発と応用
    2. 塩基増殖剤の開発と応用
    3. 連鎖硬化剤を利用したUV硬化
    4. フロンタル重合系
    5. 光塩基発生剤を利用したレドックス開始重合系

会場

ちよだプラットフォームスクウェア
101-0054 東京都 千代田区 神田錦町3-21
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受講料

  • 1名様: 44,444円(税別) / 48,888円(税込)
  • 複数名: 19,907円(税別) / 21,897円(税込)

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