レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

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会場 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

日時

開催予定

プログラム

  1. リソグラフィの基礎
    1. リソグラフィーとは
    2. 露光システムとリソグラフィー装置の変遷
  2. レジスト材料とその高性能化
    1. パターンニング用レジスト材料 (総論)
    2. G線、i線用レジスト
    3. KrF用レジスト
    4. ArFおよびArF液浸用レジスト
    5. EUV用レジスト
  3. レジスト製造技術と品質管理
    1. レジスト製造技術
    2. レジストの性能安定化技術
    3. 品質管理 – その項目と方法
  4. レジスト材料の評価技術
    1. 性能評価
    2. 品質評価
    3. シミュレーション技術
  5. レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
    1. 種々のトラブルとその解決策 (材料面から)
    2. 種々のトラブルとその解決策 (プロセス面から)
    3. 顧客対応の方法
  6. 20nm以下のリソグラフィー技術
    1. ダブルパターンニング技術
    2. DSA技術とその材料
    3. ナノインプリント技術
    4. 今後のリソグラフィー技術

会場

江東区役所 商工情報センター (カメリアプラザ)
136-0071 東京都 江東区 亀戸2-19-1
江東区役所 商工情報センター (カメリアプラザ)の地図

受講料

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