現状のPIC/Sにおける残留許容値の考えは、イーライリリー社の基準に基づいている。この場合の問題点と、EU – GMPで必要とされている健康ベース曝露限界値を用いる残留評価基準について紹介する。
- 洗浄しやすい効率的なサニタリーデザイン
- マルチパーパスプラントでの洗浄の位置づけ
- 原薬GMPガイドラインにおける洗浄
- 高薬理活性物質を扱う設備における洗浄
- 洗浄しやすい配管系とするための設計上のポイント
- 溜まり部の削減
- 分岐部L/Dと洗浄液量
- 配管切替え部
- 洗浄しやすい機器とするための設計上のポイント
- 釜内部、釜底弁
- 粉体投入部
- 高薬理活性物質を扱う封じ込め機器の洗浄
- 洗浄方法について
- CIP/COP/WIP
- 高薬理活性物質を扱う設備における定置湿潤 (WIP)
- PIC/S における残留許容値の内容
- イーライ・リリー社の評価基準
- デファクトスタンダードとしての位置づけ
- その詳細と問題点
- 0.1%投与量基準
- 10ppm基準
- 最近の規制・ガイドラインに見る動向
- EU-EMP
- ISPERisk-MaPP
- PDA TR29
- APIC
- 健康ベース曝露限界値を用いる残留許容基準
- 健康ベース曝露限界値の定義
- 持ち越し量の計算
- 今後の具体的な方策
- 洗浄の目標
- 持ち越し量上限の意味合い