本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。
(2017年9月25日 10:00〜12:30)
Atomic Layer Deposition (ALD,原子層堆積法) は,ULSI – MOSトランジスタのゲート絶縁膜,DRAMのメモリキャパシタなどの作製に実用化され,ガスバリヤコーティングや表面処理などへの応用もなされている。本講演では,ALDプロセスの歴史的展開からその原理,反応機構,プロセス最適化の指針などについて基礎的な事項を中心に取り扱う。また,近年注目を集めているALEt (Atomic Layer Etching) についても最近の技術動向を紹介する。
(2017年9月25日 13:15〜15:00)
(2017年9月25日 15:15〜17:00)
ALD応用の有望な技術分野の1つとして、ガスバリア膜が挙げられる。特に、水蒸気による材料劣化を避ける必要のある有機デバイス等のために、水蒸気の透過を極限まで減少させる薄膜技術の開発が進められている。ここでは、ALDの複雑な構造への完全被覆性を活かす、全てALDで構成した水蒸気バリア膜について、そのプロセス技術、評価技術、さらに量産実現のための装置技術までを含めた内容を紹介する。