レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策
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会場 開催
本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。
日時
2017年9月21日 12時30分
〜
2017年9月21日 16時30分
開催予定
プログラム
リソグラフィの基礎
リソグラフィーとは
露光システムとリソグラフィー装置の変遷
レジスト材料とその高性能化
パターンニング用レジスト材料 (総論)
G線、i線用レジスト
KrF用レジスト
ArFおよびArF液浸用レジスト
EUV用レジスト
レジスト製造技術と品質管理
レジスト製造技術
レジストの性能安定化技術
品質管理 – その項目と方法
レジスト材料の評価技術
性能評価
品質評価
シミュレーション技術
レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
種々のトラブルとその解決策 (材料面から)
種々のトラブルとその解決策 (プロセス面から)
顧客対応の方法
20nm以下のリソグラフィー技術
ダブルパターンニング技術
DSA技術とその材料
ナノインプリント技術
今後のリソグラフィー技術
質疑応答
会場
江東区役所 商工情報センター (カメリアプラザ)
136-0071
東京都
江東区
亀戸2-19-1
江東区役所 商工情報センター (カメリアプラザ)の地図
受講料
1名様: 46,278円(税別) / 50,905円(税込)
割引特典について
R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
1名でお申込みいただいた場合、1名につき 43,750円 (税別) / 47,250円 (税込)
複数名で同時にお申し込みいただいた場合、1名につき 23,139円 (税別) / 24,990円 (税込)
案内登録をされない方は、1名につき 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)