本セミナーでは、実務経験豊富な3名の講師が、クリーンルームにおける各ポイントを国内外の事例も踏まえながら解説いたします。
(2017年8月21日 10:30～12:30)
空気清浄に関する技術は金属精錬時に発生するヒューム除去を目的とし発展した。その後、原子力研究に関する放射能から人体への影響を防止する技術と、高性能フィルターとして開発されたHEPAフィルター (High Efficiency Particulate Air Filter) により、空気清浄に関する技術は進化した。現在は半導体産業を初め、液晶、自動車、無菌製薬、再生医療等、非常に広範囲な分野で利用されている。 クリーンルームに関する規格は、1963年に米国連邦規格 (Federal Standard 209) が発布され、技術進歩と伴に規格も改定し、1999年には国際標準化機構 (ISO) 化された。 本セミナーでは、クリーンルームに関する基礎的な技術や、ISOを含めた規格について、そしてクリーンルームの維持・管理をするための測定項目、方法などを説明する。
(2017年8月21日 13:15～15:15)
クリーン化はクリーンルームの有無に関係なく、現場のゴミ、異物を減少させ現場体質を強化、経営改善に繋げる活動です。 この基礎を身につけ現場を良く観察すると、お金をかけずに改善できることが沢山あることに気づきます。 クリーン化は経営に直結することから企業の競争力と言われます。故に昔から門外不出の技術として扱われ、他社からクリーン化技術が入手しにくいのが実情です。 今回の講演会では、短時間ですので、更衣、および更衣室の構成等の内容にスポットを当て、関連のある内容も説明いたします。特に、国内、海外の事例も紹介しますので、イメージが湧きやすいと思います。加えて、長年東南アジアや国内企業の現場指導の経験を通じ感じて来た、日本企業への危機感を伝えたいと考えています。 ご要望があれば、各企業に出向き、セミナー、現場診断・指導やクリーン化の社員教育にも対応いたします。皆様の企業の現場体質改善、強化のお手伝いをさせていただき、利益の向上に貢献したいというのが、私の思いです。ものづくり企業の多くの皆様に聴講頂きたいと思っています。
(2017年8月21日 15:30～16:30)
半導体を中心とする電⼦工業や精密機械工業では、精密化・微細化・高品質化・高信頼性が要求され続けています。また、現在においては、⾷品、バイオ、製薬業界、医療業界を含めて幅広い分野で、クリーン環境化が求められています。 クリーンルーム (CR) は汚染制御が⾏われている限られた空間で、汚染物が限定されたレベル以下に管理されています。CRは通常ISOの清浄度クラスで目標とする洗浄度レベルで定義され施工されます。ところが実際の生産を行うため、生産設備が設置稼動され材料や製品が搬送されたり、また作業者の動き等によりCR内の清浄度は著しく変動します。 今回は、CR内での浮遊する微粒子の挙動の特長を解説すると共に、作業者の動きを中心として清浄度への影響を考察します。また、清浄度を評価・測定するためのパーティクルカウンターの使い方や注意点についても言及します。