本セミナーでは、晶析の基礎から解説し、多形現象の現れ方やメカニズムについて詳説いたします。
日時
- 2011年5月31日 10時30分〜 2011年5月31日 16時30分
中止
プログラム
多形制御は医薬の生産プロセスにおいてきわめて重要な技術である。一般に医薬では溶液中からの晶析過程で多形現象が観察される。このため、多形現象を理解するには晶析過程を理解する必要がある。 ここでは晶析のさまざまな現象の基礎とメカニズムを学習し、ついで多形とその現象の現れ方やメカニズムについて講義する。
- 晶析
- 核発生
- 1次核発生、2次核発生、不均一核発生とその速度
- 結晶成長
- コッセルモデルと拡散モデル
- モルフォロジー
- 成長速度と結晶形状の関係
- 不純物効果
- 不純物の成長速度ならびに結晶形状への影響
- 核発生
- 多形の基礎
- 結晶構造
- 晶系
- 空間格子
- 空間群
- 多形の結晶形状
- 結晶構造と結晶形状の関係
- 多形の核発生と結晶成長
- 多形の析出挙動におよぼす多形の核発生と成長速度
- 多形の転移現象とメカニズム
- 固相転移と溶液媒介転移について
- 多形制御
- 多形制御因子の種類
- 晶析法と多形制御因子
- 結晶構造
- 質疑応答・名刺交換・個別相談
会場
受講料
- 1名様: 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 複数名: 47,600円(税別) / 52,360円(税込)
割引特典について
- R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
- 1名でお申込みいただいた場合、1名につき47,250円 (税込)
- 2名同時にお申し込みいただいた場合、2人目は無料 (2名で49,980円)
- 案内登録をされない方、1名につき49,980円 (税込)