薄膜作製の基礎とトラブル対策

スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長 (CVD) 法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。 　本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

1. 成膜技術に必要な真空・表面物性工学
   1. 気体分子運動論の基礎
   2. 真空工学の基礎
   3. 表面物性工学の基礎
2. 真空蒸着法
   1. 真空蒸着法の原理
   2. 真空蒸着法の種類と装置例
   3. 真空蒸着法で作製される薄膜の例
   4. 真空蒸着法を適用する際の留意事項
3. スパッタ法
   1. スパッタ法の原理
   2. スパッタ法の種類と装置例
   3. スパッタ法で作製される薄膜の例
   4. スパッタ法を適用する際の留意事項
4. 化学気相成長 (CVD) 法
   1. CVD法の原理
   2. CVD法の種類と装置例
   3. CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
   4. CVD法を適用する際の留意事項
5. 薄膜評価法
   1. 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
   2. 膜組成、膜構造
   3. 付着力、膜応力
   4. 電気的特性、光学的特性
6. 成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
   1. 膜質に関するトラブル
   2. 装置に関するトラブル
• 質疑応答