本セミナーでは、ゾルゲル法の基礎から解説し、成膜条件の最適化、ゾルゲル膜のクラックや気泡・剥離・欠陥などのトラブルの原因と対策、未然防止策について詳解いたします。
日時
- 2016年3月9日 13時00分〜 2016年3月9日 16時30分
中止
プログラム
有機 – 無機ハイブリッド技術の基礎と各種応用について概説する。有機 – 無機ハイブリッド材料の基本的な考え方とそれらの合成手法、構造解析手法、併せてポリシルセスキオキサンについて述べる。有機 – 無機ハイブリッド材料の最も重要な応用の一つである光学応用の考え方、屈折率・アッベ・温度依存性などの屈折率関連特性の制御技術、新しい発光材料として応用について述べる。また、新しいコンセプトによる撥水・撥油材などの表面処理剤適用やポリマー素材の低熱膨張率化の可能性について述べる。
- 有機 – 無機ハイブリッド材料
- 有機 – 無機ハイブリッド材料とは?
- ゾルーゲルベースの溶液反応の適用
- 熱硬化・光硬化反応の適用
- 熱可塑性有機 – 無機ハイブリッド材料
- ポリシルセスキオキサン
- ポリシルセスキオキサンとは
- 基本的な有機ケイ素化合物の合成法
- ポリシルセスキオキサンを用いたハイブリッド形成
- 有機 – 無機ハイブリッド材料とは?
- 有機 – 無機ハイブリッド材料の光学応用
- 有機 – 無機ハイブリッド材料の光学材料応用の考え方
- 透明性維持のための必要条件
- ハイブリッド形成プロセスと出口設計
- ナノ粒子 (クラスター) 合成の考え方
- ゾル – ゲル法をベースとした粒子形成
- ビルドアッププロセスによる表面修飾ナノ粒子形成
- 表面修飾ナノ粒子の化学構造とその解析手法
- 屈折率制御
- 低屈折率材料
- 高屈折率材料
- 屈折率温度依存性制御の可能性
- 透明発光材料への応用
- 希土類ドープハイブリッド材料
- 可視光発光
- 白色発光の可能性
- 光増幅の可能性
- 近赤外発光
- 希土類含有ナノクラスター含有SiO2の新規光学材料への展開
- 有機 – 無機ハイブリッド材料の光学材料応用の考え方
- 有機 – 無機ハイブリッド材料の表面処理材への応用
- 撥水・撥油材料への適用
- フッ素基導入による撥水材料
- フッ素フリー撥水・疎水材料 ~滑り性に優れた新しい処理剤~
- ハードコート材料への応用
- 撥水・撥油材料への適用
- 有機 – 無機ハイブリッド化による有機ポリマーの低熱膨張率化の可能性
会場
受講料
- 1名様: 46,278円(税別) / 50,905円(税込)
割引特典について
- R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
- 1名でお申込みいただいた場合、1名につき 43,750円 (税別) / 47,250円 (税込)
- 複数名で同時にお申し込みいただいた場合、1名につき 23,139円 (税別) / 24,990円 (税込)
- 案内登録をされない方は、1名につき 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)