本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィ EUVL の基礎から周辺材料、技術動向について解説いたします。
1986年に世界で初めて、x線領域での縮小露光法を提案してから、30年が経過し、今、ようやっと量産への機運が高まってきた。最初の15年ほどは、フィジビリティスタディーから、マスク・レジスト、光源、露光装置などの個々の技術開発の時代であり、後半の15年は量産機開発と光源の高強度化、マスク検査機、20nm以下のレジスト開発がなされた。昨年10月のEUVLシンポでのTSMC社のASML露光機NXE3300を用いた640枚/日の報告以来、今年のSPIEで1022枚/日など、量産機として確実にその性能を伸ばしてきており、4月のインテル社の最少15台の露光機の発注など、現実味が出てきている。恐らく、2017年から18年にかけて、ロジックからの量産が始まり、2020年にはメモリーでも開始されるであろう。 本講演会では、単に現状に理解に留まらず、温故知新ではないが、技術の開発の変遷などから、EUVL技術の得意、不得意などを理解して戴くとともに、量産に必要となるこれからの技術開発についても、共に考えて行きたい。