ITO膜の高品質化、表面処理、劣化対策

第1部 ITO薄膜の現状と課題

(2015年8月25日 13:00〜14:30)

透明導電膜の代表的材料であるITO薄膜の高品質化で必要な低 温プロセスにて,低抵抗・高透過率ITO薄膜の形成技術と金属/誘 電体ナノ積層化による超低抵抗化技術の現状と今後の展望につい て解説します。

1. はじめに
2. 透明導電膜材料と薄膜作製法
   1. 透明導電膜材料の分類
   2. 透明導電膜作製方法
3. 低温プロセスによる透明導電薄膜形成例と諸特性
   1. 低電圧マグネトロンスパッタ法によるITO薄膜
   2. 低エネルギーIP法によるITO薄膜
   3. PLD法によるITO薄膜
   4. H-MHVスパッタ法によるITO薄膜
   5. 低温プロセスによるITO薄膜の諸特性と課題
4. 金属/誘電体ナノ積層化による低抵抗透明導電薄膜
   1. 金属/酸化物ナノ積層化透明導電薄膜
   2. 金属/窒化物ナノ積層化透明導電薄膜
5. 今後の課題と展望 更なる低抵抗化,劣化対策,絶縁,その他
• 質疑応答

第2部 ITO電極の表面処理と自己組織化単分子膜形成による高耐久性付与

(2015年8月25日 14:45〜16:15)

ITO電極表面にUVオゾン処理・プラズマ表面処理を行い、その表 面状態を調べた。より積極的にITO電極を自己組織化単分子膜を利 用した有機EL素子の特性を紹介する。

1. はじめに
   1. 酸化物半導体
   2. 透明電極のいろいろ
   3. ITO電極
2. 表面処理
   1. UVオゾン処理
   2. プラズマ表面処理
   3. 表面処理と有機薄膜形成
3. 自己組織化単分子膜による表面処理
   1. 自己組織化単分子膜とは
   2. 自己組織化単分子膜形成ITO電極の表面状態
   3. 自己組織化単分子膜を利用した有機EL素子の特性
• 質疑応答