メタル系 (銀、銅) 透明導電フィルムの作製技術と低抵抗、透明性向上

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本セミナーでは、メタル系 (銀、銅) 透明導電フィルムの作製技術と低抵抗、透明性向上について詳解いたします。

日時

開催予定

プログラム

大型タッチパネル向けCuメッシュフィルムの特性と応用

(2015年8月3日 10:30〜11:50)

  1. タッチパネルの種類と市場
    1. タッチパネルの方式別市場
    2. スマホ/タブレットの次の市場は?
    3. 車載用タッチパネルの状況
    4. 車載用抵抗膜式タッチパネルの構造と要求特性
    5. デジタルサイネージ市場は?
    6. OLED用タッチパネルに必要な材料特性は?
    7. タッチパネルの性能仕様は?
  2. 静電容量マルチタッチパネルの技術動向
    1. 静電容量タッチパネルの位置検出の基本
    2. 検出方法の進歩とパネル材料
    3. 表面から見た構造
    4. 断面から見た構造
    5. カバーガラス一体型 (OGS) タッチパネル
    6. カバーガラスの種類と加工法
    7. OGSパネルの生産工程
    8. In-Cell型タッチパネル
    9. どの型のタッチパネルが今後伸びるか?
  3. メタル系透明導電性膜を用いたタッチパネル
    1. センサーに必要な透明導電性膜に必要な特性
    2. ITOフィルムの作成法、特性、課題
    3. ITO代替材料の候補は何か?
    4. 銀ナノワイヤー塗工フィルム
    5. 銀メッシュフィルム
    6. Cuメッシュフィルム (SpiderNet) の特性
    7. 可とう性を生かしたタッチパネル
    8. SpiderNetフィルムの作成法
    9. プラスチックカバー材の必要性と候補
    10. 貼り合わせに要求される特性
    11. 貼り合せ材料の種類

銀ナノワイヤー分散液の特性とその応用

(2015年8月3日 12:30〜13:50)

  1. はじめに
    1. ナノワイヤーの定義
    2. 銀ナノワイヤーである意義
  2. 銀ナノワイヤー分散液の製法
    1. 銀ナノワイヤーの一般的合成法
    2. 分散液化
    3. 弊社銀ナノワイヤー水分散液・有機系分散液の特性
  3. 銀ナノワイヤー分散液の応用
    1. 銀ナノワイヤー水性インクと成膜例
    2. 銀ナノワイヤー印刷用インクと印刷例

透明導電膜向け銀ナノワイヤインクの特性とパターン形成、焼成技術

(2015年8月3日 14:00〜15:20)

  1. プリンテッドエレクトロニクス
  2. 透明導電膜とその代替材料
    1. ITOフィルム
    2. ITOフィルムの代替材料
  3. 銀ナノワイヤとインク
    1. 合成方法
    2. 導電化手法
    3. フレキシブル性
    4. 印刷法によるパターニング性能
    5. 環境安定性
  4. まとめ

グラフェン超薄膜と銀ナノワイヤを用いた透明導電フィルムの作製とその特性

(2015年8月3日 15:30〜16:50)

低抵抗で高透過率、フレキシブルで軽くて低コストな透明導電フィルムは種々の光デバイスの高機能化、また新たな光デバイス創製にとって極めて重要である。ITO膜に代わる種々の新規導電膜が提案、開発されており、グラフェンや銀ナノワイヤは有力な候補である。しかしながら特に電子デバイス応用を考えた場合、グラフェンは導電性に、銀ナノワイヤは平坦性と化学的安定性、エネルギレベル制御に欠点を有する。しかし本講座で紹介するように、これらを積層することにより両者の長所を生かしたまま欠点を補えることを見出した。

  1. 諸言
    1. 透明導電フィルム開発の背景
    2. 透明導電膜としてのグラフェンおよび銀ナノワイヤ
    3. グラフェン作製方法と特徴
    4. 銀ナノワイヤ作製方法と特徴
  2. グラフェン/銀ナノワイヤ/ポリマー積層透明導電フィルム
    1. 作製方法
    2. 他の導電膜とのベンチマーク
    3. グラフェン/銀ナノワイヤハイブリッド膜の報告例
    4. 積層フィルムの表面抵抗と透過率
    5. 積層フィルムのミクロ構造
    6. グラフェンによる銀ナノワイヤの硫黄腐食低減
    7. 積層フィルムに対してどの国が興味を持っているか
  3. 電気化学還元による積層透明導電フィルムの仕事関数制御
    1. 窒素ドープグラフェン
    2. 電気化学的還元方法
    3. 透明導電フィムルの仕事関数低減
    4. NaBH4水溶液処理による仕事関数の低減
    5. グラフェン原子構造と仕事関数の関係
  4. 今後の展望

会場

株式会社 技術情報協会
141-0031 東京都 品川区 西五反田2-29-5
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