流動場での、高分子の結晶化と成形プロセスにおける結晶化の解析

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プログラム

成形プロセスにおける高分子の結晶化挙動は静置場とは全く違った様相を呈する。結晶化速度は流動の影響で数千倍・数万倍になり、一方、結晶化の核剤はほとんど役に立たない。さらに、結晶化により溶けたものが固化することを考慮しないと、成形プロセスの流動場の解析が成り立たない。  本講では、多くの事例を交えながら、実際のものづくりの場での高分子の結晶化の本質的な考え方について述べる。

  1. 成形プロセス中の結晶化の基礎
    1. 冷却過程での結晶化
      1. 準静的扱い
      2. アブラミの式の非等温系への拡張
      3. 結晶化潜熱の発生速度と冷却速度
      4. 準静的扱いの限界
      5. 核形成・成長
    2. 流動場での結晶化
      1. 応力-光学則、結晶化速度の配向度依存性、流動の記憶効果
      2. シシーケバブ構造形成
  2. 成形プロセス中の結晶化の解析事例
    1. オンライン計測手法
      1. 温度計測
      2. 応力計測
      3. 速度計測
      4. 複屈折計測
      5. X線回折測定
    2. 溶融紡糸過程の解析
      1. 温度測定による配向結晶化速度解析
      2. 複屈折計測による結晶化挙動の推定
      3. 広角X線回折測定による結晶化挙動解析
    3. フィルム成形過程
      1. 一軸伸長過程・二軸伸長過程の結晶化
      2. 面配向
    4. 溶融成形過程の移動現象論と高次構造形成
      1. 高次構造形成を伴う系のモデル化
      2. 熱収支
      3. 構成則への影響
    • 質疑応答・名刺交換

会場

大田区産業プラザ PiO
144-0035 東京都 大田区 南蒲田1-20-20
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受講料

  • 1名様: 38,000円(税別) / 41,800円(税込)
  • 複数名: 20,000円(税別) / 22,000円(税込)

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    • 1名あたり定価半額の20,000円(税別) / 21,600円 (税込)
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    • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
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