本セミナーは、 ALD , CVD のセミナーを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 114,600円(税込) → 割引受講料 89,700円(税込)
ALD による薄膜合成は、ナノメートルレベルでの膜厚制御性、膜厚均一性などから、ULSIゲート酸化膜形成、メモリキャパシタ形成などに応用展開されている技術です。 しかし、そのプロセスは、原料の供給、パージ、反応性ガスの供給、パージなどからなり、各段階での条件設定は、これまでの類似手法である CVD と比較して、かなり複雑であり、速度論の基礎的知識なしには容易に最適化を達成できません。 このため、本講座では、まずALDの基礎知識として、CVDの速度論から説明を行い、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。また、ALDプロセスの理想と実際について、原理およびメカニズムから詳しく解説を行い、新たにALDプロセス開発・製品応用に関わる方の一助となるよう配慮した講義を行います。
～応用を見据えて、安く高品質に成膜するための必須講座～
(2014年3月27日 10:30～16:30)
産業界でプラズマCVDによる成膜に従事する方々は、膜質をある方向に変えたいときに、装置のパラメータのどれを操作するとよいのかを一番知りたいはずです。 しかし、プラズマCVDは電気工学・放電工学・化学工学・流体工学等が複雑に絡み合ったプロセスです。これらを全部習得すれば完璧ですが、産業界の人にそんな暇は無いと思います。 本講座では、プラズマCVDに携わる方々が、日々の業務の中で活かすことができ、「こうしたらいいよ」と、自分のアイデアも出せるようなエッセンスを身につけて頂くことを趣旨としました。
(2014年3月28日 10:30～12:10)
プラズマCVDで用いられている反応性プラズマ中では、気相中で反応性の高い化学的活性種が重合してナノ粒子へと成長します。ナノ粒子の膜への混入はデバイス性能の低下や歩留まりの悪化を招くため、その制御・抑制に頭を悩ませている方も多いと思います。 本講座では、反応性プラズマ中におけるナノ粒子成長機構や、ナノ粒子に作用する力などを概説すると共にこれらの知見を基に、ナノ粒子の抑制による高品質薄膜作製や、逆にナノ粒子を利用した高機能薄膜作製について説明します。
(2014年3月28日 13:00～14:40)
マイクロ波を用いたプラズマ生成技術とその材料表面修飾、ナノ材料創製技術に関する事例を解説します。
(2014年3月28日 14:50～16:30)
当社は1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、25年以上の実績・経験がある。 この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介する。