IGZO薄膜トランジスタの現状と将来展望と高信頼性化

近年、IGZOを中心とした透明酸化物薄膜への関心が高まっている。
本セミナーでは、次世代ディスプレイを駆動する酸化物薄膜トランジスタの基礎から応用まで広く解説する。特に、高性能化、高信頼性化に向けた取り組みについて、詳しく紹介する。

1. 透明酸化物薄膜の基礎物性
   1. 酸化物材料の特長
   2. 酸化物材料の歴史
   3. 酸化物材料の電気伝導
2. 薄膜トランジスタの動作原理
   1. デバイス構造
   2. 酸化物薄膜解析技術
   3. 酸化物TFTの性能評価技術
3. IGZO薄膜トランジスタの製造プロセス
   1. 製造プロセス ～真空プロセス～
   2. 製造プロセス ～液体プロセス～
4. 高性能化技術
   1. 界面制御
   2. レーザ照射
5. 信頼性評価技術
   1. 劣化メカニズム 　～ 電気的劣化、発熱劣化、光劣化 ～
   2. 評価技術
   3. 高信頼性化技術
6. 酸化物半導体の将来展望
   1. 酸化物TFTの今後
   2. 新応用技術 　～ センサー、メモリ応用 ～
• 質疑応用・名刺交換