防汚性・視認性向上材料、技術開発のための表面化学の基礎、解析技術とその応用

本講座ではまず概論として反射防止膜の構造並びに要求される特性を述べる。更にその表面に塗布されている防汚膜に関して解説する。具体的には防汚性を発揮するための材料化学、撥水・撥油性を理解するための表面化学、また分子レベルの表面の解析技術に関して詳細に解説し、その耐久性を付与するための基本技術について解説する。それを用いた表面化学応用技術についても述べる。 　またタッチパネル等の屋外使用を可能にするディスプレイの視認性向上技術について、指紋付着性への影響因子、屈折率マッチング材料、モスアイによる無反射技術、及びITOパターン非視認化技術の観点から述べる。

1. ARフィルムの概要
   1. ARフィルムの特徴とその構造
   2. ARフィルムの製造装置
2. ARフィルムへの要求特性
   1. ARフィルムへの化学的な要求特性
   2. ARフィルムへの物理的な要求特性
   3. ARフィルムへの電気的な要求特性
3. 表面化学の基礎
   1. 界面現象
   2. 表面エネルギーの解析
      1. 物理化学の手法
      2. Zisman、Fowksの手法
      3. 表面エネルギーの算出
   3. 表面凹凸の影響
      1. Wenzelの手法
      2. Cassie-Baxterの手法
   4. 超撥水・撥油技術
4. AR表面の防汚化技術
   1. AR表面の防汚膜
   2. 防汚材料
   3. 塗布工程
   4. 防汚メカニズム
   5. 耐指紋特性に及ぼす影響因子
5. タッチパネル視認性向上技術
   1. 屈折率マッチング材料
   2. モスアイフィルム
   3. ITOパターン非視認化技術
   4. 指紋付着性への影響因子
6. 表面分析
   1. 表面分析の一般
   2. FTIR
   3. X線光電子分光 (XPS)
   4. Auger分光
• 質疑応答・名刺交換